Franta - Paris: Acquisition, livraison et mise en service d’un bâti de gravure plasma au sein de l’Institut des NanoSciences de Paris (INSP)
Data licitatiei 15.09.2025
au mai rămas 49 zile
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| Valoare estimata : 530,000 EUR
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Tip anunt:
UE
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ID: 9881232
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Data publicarii :
28.07.2025
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Tara/Judet:
FR |
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Descriere scurta:
Franta - Paris: Acquisition, livraison et mise en service d’un bâti de gravure plasma au sein de l’Institut des NanoSciences de Paris (INSP)
Coduri CPV:
38000000-5 - Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)
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Textul licitației
cro-nanofabrication de dispositifs et de composants, l’INSP souhaite acquérir un bâti de gravure plasma. Les principaux besoins auxquels devra répondre l’équipement sont les suivants: •Gravure de silicium de plusieurs dizaines de micromètres •Gravure profonde de Silicium de plus de 100 µm •Gravure d’oxydes (SiO2, TiO2) plusieurs micromètres •Gravure de métaux <100 nm L’équipement attendu est une machine de gravure par plasma de type RIE-ICP (Reactive Ion Etching – Inductively Coupled Plasma) constitué de deux électrodes qui génèrent un plasma uniforme de haute densité à partir d’une source inductive, et d’une cathode indépendante pour polariser les substrats. L’équipement devra comporter un module de gravure profonde du silicium et un système de détection de fin d’attaque par interférométrie laser. Le présent marché comprend à minima :