Germania: Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Data licitatiei 19.05.2026
Expirat
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| Valoare estimata : -
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Tip anunt:
UE
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ID: 10787910
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Data publicarii :
14.04.2026
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Tara/Judet:
GE |
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Descriere scurta:
Germania: Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Coduri CPV:
38000000-5 - Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)
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Textul licitației
Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.Identificatorul procedurii: 308081f0-14d6-4e63-950d-bf5467850b37Identificator intern: EU-OV/2026-28Tip de procedură: DeschisăProcedura este accelerată: nu2.1.1. ScopNatura contractului: ProduseClasificarea principală (cpv): 38000000 Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)2.1.2. Locul de executareSubdiviziunea țări